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可編程勻膠機
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  • 光刻膠烤膠機 光刻膠烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
  • 8英寸晶圓烤膠機 8英寸晶圓烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
  • 12英寸聚四氟腔體防腐... 本產品為旋涂儀也稱勻膠機,是利用高速旋轉產生的離心力來涂覆膜料的設備。本型號采用工業級大功率伺服電機,可實現更好的穩定性...
  • 擺臂勻膠機旋涂儀 擺臂勻膠機主要利用離心涂覆原理將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,該工藝在材料研究領域有著廣泛...
  • 全自動勻膠機旋涂儀 旋涂儀是一種實驗室設備,主要用于制備薄膜材料,其應用范圍包括制備太陽能電池,制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
  • 12寸防腐勻膠機旋涂儀 12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基...
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  • 凈化旋涂儀帶加熱臺 凈化型勻膠機廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等,例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時,可用此設備進行各種膠體的表面涂覆...
  • 1000MM勻膠機旋涂... 勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器,廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上,利用離...
  • 托盤定位勻膠機旋涂儀 勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠...
  • PP腔體旋涂儀 旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻膠旋涂、生物介質制備、溶膠-凝膠法制...
  • 不銹鋼腔體勻膠機 勻膠機是一種用于制備薄膜的儀器,廣泛應用于材料學、物理學、化學等領域。它的主要工作原理是在高速旋轉的基片上,利用離心力使...
  • 大型勻膠機旋涂儀 本設備為大型勻膠機,采用大功率伺服電機,配合高精度驅動器,可實現對大尺寸樣品的**勻膠實驗
  • 八英寸聚四氟腔體防腐旋... 勻膠機旋涂儀可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠...
  • 不銹鋼腔體八英寸勻膠機... 勻膠機可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法...
  • 全自動多層鈣鈦礦旋轉涂... 全自動多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝
  • 12寸不銹鋼腔體加熱旋... 旋涂儀是一種實驗室設備,主要用于制備薄膜材料,其應用范圍包括制備太陽能電池,制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
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  • 全自動超聲波氣氛加熱勻... 超聲波氣氛加熱勻膠機是一款直徑300mm、靈活的旋轉勻膠設備,可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上,進而通過高速旋轉使得膠...
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豫公網安備 41019702002438號

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