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該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.
電子束蒸發鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
電子束蒸發鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-EBH500-SS |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
<150mm，樣品臺可旋轉 |
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可調溫度 |
≦500℃ |
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電子槍 |
新型電子槍，6孔坩堝 |
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加熱燈 |
4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
Φ500*H500mm |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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腔體材質 |
304不銹鋼 |
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開啟方式 |
前開門式 |
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膜厚測量 |
采用SQM160膜厚儀進行監控，涂層厚度不均勻度小于6%。 |
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真空系統 |
前級泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
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次級泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
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真空測量 |
復合真空計(電離規+電阻規) |
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系統真空 |
5×10-5Pa |
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水冷系統 |
水壓<2.5bar 水壓監測 |
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加熱燈 |
4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明 |
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電極接口 |
帶2路金屬蒸發電極接口 |
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控制系統 |
CYKY自研專業級控制器 |
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其他參數 |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
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整機尺寸 |
1000mm×800mm×1500mm |
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整機功率 |
20KW |
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整機重量 |
350kg |
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