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通用真空腔體設計用于在低壓至高真空 - 5·10-7 mm 下進行物理實驗。該真空腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學沉積 (CVD)、等離子體化學沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜。 此外，在安裝適當?shù)脑O備時，真空柱還可用于進行固體物理領域的研究。
抽氣和真空室升降過程有手動和自動兩種控制方式。 真空柱的壓力和狀態(tài)顯示在液晶顯示屏上。
真空室被制成帽的形式。 腔室材料為不銹鋼，箱體上焊接有矩形冷卻通道。 腔室法蘭有許多支管，用于連接各種輸入：旋轉、電氣、低溫。 真空柱配備有自動室提升機構。
腔體的技術特性。
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真空系統(tǒng) |
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真空室內徑 |
不小于250mm |
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真空室高度 |
不小于400mm |
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攝像頭類型 |
圓筒鐘型 |
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腔體材質 |
不銹鋼，12X18H10T |
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腔體內表面加工 |
研磨、拋光 |
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前級泵抽速 |
不小于5m3/h |
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前級泵類型 |
干式螺旋泵 |
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高真空泵類型 |
渦輪分子泵組 |
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高真空泵抽速 |
不小于300l/s |
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冷卻系統(tǒng) |
線圈，入口/出口配件：1/4' |
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工作真空度 |
1x10-6毫米汞柱 |
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極限真空 |
5х10-7毫米汞柱 |
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達到工作真空的時間 |
不超過60分鐘 |
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真空計類型 |
組合式寬范圍型 |
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壓力測量范圍 |
760 mm Hg |
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旁路泵送管線 |
有 |
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高真空閥 |
氣動，常閉 |
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連接法蘭 |
KF16 – 2個. KF25 – 6個. |
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控制類型 |
手動/自動 |
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真空系統(tǒng)控制方法 |
電動氣動 |
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真空系統(tǒng)壓力和狀態(tài)指示 |
控制面板上的液晶顯示屏 |
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外形尺寸 |
寬x深x高（1000x1200x1800(2400)mm |
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重量 |
不超250KG |
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電源電壓 |
220V |
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電源相數(shù) |
1 |
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進氣壓力 |
4-8 Bar |
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功耗 |
0.5KW |
